中微公司:刻蚀设备反应台全球出货超5000台
3月12日,中微半导体设备(上海)股份有限公司(以下简称“中微公司”)宣布,等离子体刻蚀设备反应总台数全球累计出货超过5000台,包括CCP高能等离子体刻蚀机和ICP低能等离子体刻蚀机、单反应台反应器和双反应台反应器共四种构型的设备。
新华财经北京3月12日电 3月12日,中微半导体设备(上海)股份有限公司(以下简称“中微公司”)宣布,等离子体刻蚀设备反应总台数全球累计出货超过5000台,包括CCP高能等离子体刻蚀机和ICP低能等离子体刻蚀机、单反应台反应器和双反应台反应器共四种构型的设备。
据悉,等离子体刻蚀机,是光刻机之外,最关键的、也是市场最大的微观加工设备。由于微观器件越做越小和光刻机的波长限制,也由于微观器件从二维到三维发展,刻蚀机是半导体设备过去十年增长最快的市场。这一重要里程碑标志着中微公司在等离子体刻蚀设备领域持续得到客户与市场的广泛认可,也彰显了公司在等离子体刻蚀领域已进入国际前列。
此前,中微公司2024年业绩快报显示,中微公司2024年营业收入约90.65亿元,较2023年增加约28.02亿元。公司在过去13年保持营业收入年均增长大于35%,近四年营业收入年均增长大于40%的基础上,2024年营业收入又同比增长约44.73%。其中,刻蚀设备收入约72.77亿元,在最近四年收入年均增长超过50%的基础上,2024年又同比增长约54.73%。
未来,中微公司将紧跟先进制程工艺发展的最前沿,继续加大研发投入,在产品设计、开发和制造过程中,始终强调技术的创新、产品的差异化和知识产权的保护,不断开发更多的高端设备产品,实现高速、稳定、健康和安全的高质量发展。
编辑:王媛媛
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